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Heidolph Hei-CHILL 1200冷卻循環(huán)水浴使用滾輪放置在實驗室工作臺下。制冷功率為1200W。清晰布置的控制元件，大型LED顯示屏，薄膜鍵盤和用于監(jiān)控液位的窗口。溫度范圍為-10°C至+ 40°C。

Heidolph Hei-CHILL 600冷卻循環(huán)水浴使用滾輪放置在實驗室工作臺下。制冷功率為600W。緊湊的儀器設計外觀，大型LED顯示屏，薄膜鍵盤和用于監(jiān)控循環(huán)液位的窗口。

Heidolph Hei-CHILL 350冷卻循環(huán)水浴緊湊的設計可輕松放在實驗臺上，制冷功率為350W。自動啟動和關(guān)閉功能，緊湊的儀器設計外觀，大型LED顯示屏，薄膜鍵盤和用于監(jiān)控循液位的窗口。

Heidolph Hei-CHILL 250冷卻循環(huán)水浴緊湊的設計可輕松放在實驗臺上，制冷功率為250W。緊湊的儀器設計外觀，大型LED顯示屏，薄膜鍵盤和用于監(jiān)控液位的窗口

德國 進口冷卻循環(huán)水浴緊湊的設計可輕松放在實驗臺上，制冷功率為250 W，溫度范圍為：-10°C至+ 40°C。